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產(chǎn)品中心
EHD01M-GE
激光測量相機采用大靶面科學(xué)級圖像傳感器,可定制光窗,采用雙波段增透光學(xué)窗口,防止產(chǎn)生干涉條紋,可用于科學(xué)成像、醫(yī)學(xué)影像及紫外及近紅外探測,并極其適合在激光測量領(lǐng)域的應(yīng)用。
產(chǎn)品型號 EHD01M-GE
圖像陣列 1024×1024 (H×V)
像素尺寸 13µm×13µm
靶面尺寸 19.2mm,1.2英寸
數(shù)據(jù)位寬 12bit
動態(tài)范圍 ≥66dB
讀出噪聲 ≤5e-
滿肼電子 ≥10ke-
探測上限 4μW/cm2
@595nm,1ms
探測下限 5.76×10-5μW/cm2
@595nm,35ms
暗電流 13e-/p/s@25℃
光譜范圍 400nm~1000nm
峰值量子效率 >70%@595nm
最高幀頻 5fps
曝光時間 0.1ms~5s
數(shù)據(jù)接口
及協(xié)議
千兆以太網(wǎng)協(xié)議;RJ45
控制/觸發(fā)
接口
BNC接口,LVTTL電平,沿觸發(fā)
制冷/散熱 /
電源/功耗 12VDC,約5W
光學(xué)窗口 1053nm,351nm雙波段增透光學(xué)窗口,可拆光窗
光學(xué)接口 C/F
外形尺寸 69mm×59mm×45mm(W×H×L)
重量 約160g
溫度濕度 工作溫度:0°C~40°C;存儲溫度:-10℃~+60℃;濕度:10%~85%
操作系統(tǒng) Windows/Linux/國產(chǎn)操作系統(tǒng)
二次開發(fā)庫 C、C#、C++、Labview、VB
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